# Estudo UVID de células TOPCon: Teste IV sem contato rastreia

> Um estudo UVID de célula solar TOPCon usa ToF-SIMS, XPS de perfil de profundidade, EQE e testes elétricos para explicar como a liberação de hidrogênio

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- ** Jerry
- ** 2026-07-27
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## Estudo UVID de células TOPCon: Teste IV sem contato rastreia

**Resposta rápida:** A UVID, degradação induzida por ultravioleta, é um mecanismo de confiabilidade em células TOPCon que as medições de potência padrão não detectam porque se desenvolve gradualmente sob iluminação em vez de aparecer como uma perda imediata. O teste IV sem contato é usado para rastreá-la: a célula é medida sem sondar a metalização, de modo que a mesma célula pode ser medida repetidamente através de uma exposição acelerada sem introduzir danos de contato que confundiriam o resultado. As condições de estresse neste estudo envolvem exposição a UV a 60 °C, com medições em faixas espectrais próximas a 120 nm, 400 nm e 500 nm, usando conjuntos de amostras rotulados UV60. O valor da medição sem contato é que ela transforma a UVID de uma observação destrutiva no final do teste em uma curva que você pode acompanhar, o que permite que uma mudança de processo seja avaliada em vez de apenas aceita ou rejeitada.

Fabricação de Módulos Fotovoltaicos · por Jerry, Ooitech

## TOPCon Teste UVID e IV sem contato de células

As células solares TOPCon conquistaram uma posição de liderança no mercado fotovoltaico devido à sua forte passivação de superfície e contatos seletivos de portadores. A operação ao ar livre, no entanto, as expõe à degradação induzida por ultravioleta, ou UVID. Neste estudo, a eficiência de conversão caiu **6,72% após exposição UV60**.

Trabalhos anteriores frequentemente associavam a UVID principalmente a fótons de alta energia que quebram ligações Si–H e liberam hidrogênio móvel. O espectro ultravioleta solar cobre uma faixa de energia de fótons muito mais ampla, de **3,1–4,43 eV**, portanto sua interação com os materiais da superfície frontal não pode ser explicada apenas pela quebra de ligações Si–H. A pilha frontal de Al₂O₃/SiNₓ também apresenta resistência UV muito mais fraca do que a estrutura traseira.

O testador IV sem contato Millennial Solar oferece testes não destrutivos, sem consumíveis e com velocidade de medição em nível de milissegundos. É compatível com designs de células com contato traseiro e sem barramento e pode obter parâmetros multidimensionais de IV, EQE e PL em uma única sequência de teste.

Este estudo utilizou espectrometria de massa de íons secundários por tempo de voo, ou ToF-SIMS, juntamente com espectroscopia de fotoelétrons de raios X com perfil de profundidade, ou XPS, para rastrear a distribuição elementar e as mudanças de ligações químicas nas camadas de Al₂O₃/SiNₓ antes e após a exposição UV60. Os resultados mostram que a quebra de ligações N–H atua como uma segunda fonte de hidrogênio, além da quebra de ligações Si–H. A exposição UV também danifica as ligações Al–O no Al₂O₃ amorfo, criando grandes quantidades de vacâncias de oxigênio. Os mecanismos combinados de hidrogênio e oxigênio aumentam a recombinação de superfície e fornecem uma base mais clara para melhorar a confiabilidade da camada de passivação.

## Método Experimental

Millennial Solar

(a) Estrutura esquemática da célula solar TOPCon; (b) amostra simétrica de estrutura frontal; (c) amostra simétrica de estrutura traseira.

Duas estruturas de amostra simétricas foram preparadas. A estrutura frontal foi **SiNₓ/Al₂O₃/n-Si/Al₂O₃/SiNₓ**. A estrutura traseira incluiu camadas de SiOₓ/n⁺-poly-Si. O envelhecimento UV foi realizado em nível de módulo usando uma fonte de luz dominada por UV-A com aproximadamente 11% de UV-B. As condições de teste foram 60°C e 30% de umidade relativa.

| Item de teste | Condição ou configuração |
| --- | --- |
| Amostra simétrica frontal | SiNₓ/Al₂O₃/n-Si/Al₂O₃/SiNₓ |
| Amostra simétrica traseira | Estrutura contendo camadas de SiOₓ/n⁺-poly-Si |
| Fonte UV | Principalmente UV-A, com aproximadamente 11% de UV-B |
| Temperatura de teste | 60°C |
| Umidade relativa | 30% |
| Dose UV máxima relatada | 60 kWh·m⁻², identificada como UV60 |
| Principais métodos de análise | ToF-SIMS e XPS de perfil de profundidade |

Irradiância espectral da fonte de luz ultravioleta.

## Resistência UV das Estruturas Frontal e Traseira

Millennial Solar

Mudanças nas amostras simétricas de estrutura frontal e traseira durante a exposição UV: (a) tempo de vida efetivo dos portadores, τeff, em uma concentração de portadores injetados de 1 × 10¹⁵ cm⁻³; (b) tensão de circuito aberto implícita, iVoc; e (c) densidade de corrente de saturação de um lado, J₀.

A estrutura simétrica traseira mostrou apenas degradação menor após **60 kWh·m⁻²** de exposição UV. Sua camada de poly-Si de 120 nm absorveu quase toda a radiação UV incidente e forneceu proteção eficaz à interface subjacente.

A estrutura simétrica frontal degradou-se muito mais severamente:

- O tempo de vida efetivo dos portadores, τeff, caiu de **2.895,6 μs para 1.552,8 μs**.
- A tensão de circuito aberto implícita, iVoc, diminuiu de **735,5 mV para 715,2 mV**.
- O J₀ de um lado aumentou para **18,4 fA·cm⁻²**, aproximadamente três vezes seu valor inicial.
- O desempenho de passivação do Al₂O₃/SiNₓ deteriorou-se substancialmente.

Esses resultados confirmam que a pilha frontal de SiNₓ/Al₂O₃ é consideravelmente mais vulnerável à exposição ultravioleta do que a estrutura traseira de SiOₓ/poly-Si.

## Evolução da Composição Química

Millennial Solar

Perfis de profundidade ToF-SIMS de (a) hidrogênio e (b) intensidade de oxigênio em amostras simétricas polidas de estrutura frontal antes e após exposição UV60.

O ToF-SIMS mostrou um aumento claro na concentração de hidrogênio após a exposição ultravioleta, especialmente dentro da camada de SiNₓ. A análise de perfil de profundidade do sinal XPS de N 1s descobriu que a proporção de ligações N–H na interface SiNₓ/Al₂O₃ diminuiu de **9,64% para 5,97%**. Isso confirma que a quebra de ligações N–H é outra fonte importante de hidrogênio, juntamente com a dissociação de ligações Si–H.

Parte do hidrogênio liberado difundiu em direção à superfície do SiNₓ e se ligou novamente ao silício. Isso explica por que a proporção local de N–H próxima à superfície aumentou em vez de continuar a cair.

A evolução do oxigênio também foi crítica. A concentração de oxigênio dentro da camada de Al₂O₃ diminuiu ligeiramente, enquanto aumentou tanto na interface SiNₓ/Al₂O₃ quanto na Al₂O₃/Si. Essa distribuição indica que o oxigênio liberado pela quebra de ligações Al–O difundiu para fora do filme de Al₂O₃.

A energia de ligação Al–O em um cristal ideal é de cerca de **5,3 eV**. O Al₂O₃ amorfo é diferente. Íons de alumínio subcoordenados e vacâncias de oxigênio carregadas negativamente podem reduzir a energia de ativação para quebrar ligações Al–O adjacentes para cerca de **2,4 eV**. Um fóton ultravioleta de 400 nm carrega cerca de **3,1 eV**, o que já é suficiente para desencadear esse processo.

Espectros XPS de perfil de profundidade de N 1s em diferentes interfaces Al₂O₃/SiNₓ antes e após exposição UV60, incluindo ligações N–Si ajustadas em 397,5 eV e ligações N–H em 399,5 eV.

Os resultados de XPS de O 1s mostraram uma conversão de oxigênio de rede, identificado como OI, para componentes relacionados a vacâncias de oxigênio, identificados como OII. Nos espectros de Al 2p, a proporção de Al₂O₃ caiu de **69,99% para 60,36%**, enquanto Al–OH aumentou de **30,01% para 39,64%**.

Os espectros de Si 2p também mostraram um aumento de Si²⁺ e uma diminuição dos estados de oxidação mais elevados do silício. Os elétrons liberados durante a formação de vacâncias de oxigênio reduziram o silício a partir de estados de oxidação mais elevados. Essas mudanças coordenadas nas ligações de oxigênio, alumínio e silício indicam danos amplos ao filme de Al₂O₃, em vez de uma única reação isolada de quebra de ligação.

## Degradação do Desempenho Elétrico

Millennial Solar

Curvas de EQE e refletância da célula solar TOPCon antes e depois da exposição a UV60.

A refletância permaneceu praticamente inalterada após a exposição a UV60. A EQE apresentou um declínio moderado na região de comprimento de onda curto abaixo de 500 nm, o que corresponde a uma recombinação mais forte na superfície frontal.

Variação da resistividade do contato frontal da célula solar TOPCon durante a exposição a UV60.

A resistividade do contato frontal aumentou quase linearmente com a dose de UV, atingindo **4,1 mΩ·cm²**, cerca de **8,6 vezes** seu valor inicial. O mecanismo proposto está ligado ao hidrogênio e oxigênio móveis gerados dentro das camadas de passivação. Essas espécies se difundem em direção à interface do eletrodo e participam de reações de oxidação-redução.

A radiação UV também pode converter moléculas de água na superfície de prata em radicais hidroxila. Juntas, essas reações promovem a corrosão do eletrodo metálico e aumentam a resistência de contato.

Degradação do desempenho elétrico da célula solar TOPCon durante a exposição a UV60: (a) Voc; (b) Jsc; (c) FF; e (d) eficiência.

As perdas elétricas finais foram distribuídas entre vários parâmetros:

- **Voc diminuiu 3,46%**, principalmente devido à degradação da passivação da superfície frontal e ao aumento de J₀.
- **FF diminuiu 2,82%**, principalmente por causa do aumento acentuado da resistividade do contato frontal.
- **Jsc diminuiu apenas 0,64%**, pois a perda de EQE foi limitada principalmente à região de comprimento de onda curto.
- **A eficiência de conversão diminuiu 6,72%** após a exposição a UV60.

A estrutura frontal de SiNₓ/Al₂O₃ da célula solar TOPCon, portanto, tem resistência ultravioleta muito menor do que a estrutura traseira. Sob exposição a UV, as ligações Si–H e N–H se quebram e liberam hidrogênio móvel. As ligações Al–O no Al₂O₃ amorfo também são danificadas, liberando oxigênio e gerando uma alta densidade de vacâncias de oxigênio. Ao mesmo tempo, o Al₂O₃ se desloca em direção a Al–OH e a distribuição dos estados de oxidação do silício muda.

Os mecanismos de degradação relacionados a hidrogênio e oxigênio atuam em conjunto para intensificar a recombinação superficial. O aumento associado na resistividade do contato frontal adiciona uma perda elétrica separada, levando à **degradação de eficiência de 6,72%**. Essas descobertas oferecem uma referência útil para entender o UVID do TOPCon e melhorar a confiabilidade de longo prazo das pilhas de passivação do lado frontal.

## Visão da Ooitech

O ponto-chave é que o UVID do TOPCon não pode ser tratado como um simples problema de ligação Si–H. A química da passivação, o controle de vacâncias de oxigênio e a estabilidade da metalização precisam ser avaliados em conjunto, especialmente ao qualificar processos de produção de módulos para longa vida útil em ambiente externo. O monitoramento por IV sem contato, EQE e PL pode ajudar a identificar essas perdas mais cedo, sem adicionar danos por contato mecânico a projetos de células cada vez mais delicados.

Relacionado: [UVID TOPCon e a divisão r-UVID / ir-UVID](https://www.ooitech.com/topcon-uvid-reversible-and-irreversible-uv-degradation.html) separa a perda que um light soak recupera da perda que permanece.

## Leitura adicional e dados de contexto

Material de referência público sobre este tema, publicado pelas organizações que mantêm o roteiro tecnológico e os dados de mercado do setor:

- [Fraunhofer ISE — Relatório de Fotovoltaica](https://www.ise.fraunhofer.de/en/publications/studies/photovoltaics-report.html)
- [Departamento de Energia dos Estados Unidos — Fotovoltaica](https://www.energy.gov/eere/solar/photovoltaics)
- [VDMA — Roteiro Tecnológico Internacional para Fotovoltaica (ITRPV)](https://www.vdma.org/international-technology-roadmap-photovoltaic)

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